比如中国台湾台积电林本坚创新性地提出浸没式光刻设想后, ASML开始与台积电合作开发第四代浸没式光刻机,并在 2007年成功推出第一台浸没式光刻机TWINSCANXT:1900i,该设备采用折射率达到 1.44 的去离子水做为媒介,实现了 45nm 的制程工艺,并一举垄断市场。
这造成当时的另两大光刻巨头尼康、佳能主推的157nm 光源干式光刻机被市场抛弃,不仅损失了巨大的人力物力,也在产品线上显著落后于 ASML,这也是尼康、佳能由盛转衰,ASML 一家独大的重要转折点,而这一方面又巩固了台积电在晶圆代工上的龙头地位,让台积电掌握了最为先进的制加工工艺,促进了台积电的发展。
中国市场是没有这样的半导体生态的,除了海思之外,上下游都没有在世界领先的半导体厂商进行反哺产业链,在2017年梁孟松加入中芯国际之后,中芯国际才掌握了12纳米的加工工艺,与台积电还有着明显差距。
目前上海微电子在封装光刻机和LED光刻机领域都取得了突破,公司的封装光刻机已在国内外市场广泛销售,国内市占率达到80%,全球市占率40%,但是用于生产芯片的光刻机目前才掌握90nm光刻机,目前上海微电子在攻克45nm的工艺技术。