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什么是光刻机(国产3nm光刻机最新进展)

来源:原点资讯(www.yd166.com)时间:2023-05-05 02:35:56作者:YD166手机阅读>>

光刻机是在半导体领域必不可少的设备,无论生产制造什么样的芯片,都脱离不了光刻机, 如果说航空发动机代表了人类科技领域发展的顶级水平,那么光刻机则是半导体工业界最为耀眼的明珠,其具有技术难度最高、单台成本最大、决定集成密度等特点。

什么是光刻机,国产3nm光刻机最新进展(1)

今天我们就来了解一下光刻机。

光刻机的工作原理

在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。

当芯片完成 IC 设计后,就要委托晶圆代工厂进行芯片制造封装。

芯片制造中,晶圆必不可少,从二氧化硅(SiO2)矿石,比如石英砂中用一系列化学和物理冶炼的方法提纯出硅棒,然后切割成圆形的单晶硅片,这就是晶圆。

什么是光刻机,国产3nm光刻机最新进展(2)

从硅棒上切下的晶圆片

晶圆是制造各式电脑芯片的基础。我们可以将芯片制造比拟成用积木盖房子,藉由一层又一层的堆叠,完成自己期望的造型(也就是各式芯片)。然而,如果没有良好的地基,盖出来的房子就会歪来歪去,不合自己所意,为了做出完美的房子,便需要一个平稳的基板。对芯片制造来说,这个基板就是晶圆。

什么是光刻机,国产3nm光刻机最新进展(3)

光刻技术是一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗光刻技术蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。

什么是光刻机,国产3nm光刻机最新进展(4)

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