科技改变生活，随着科技的发展我们的生活发生了巨大变化，尤其是智能手机的出现。

智能手机打败了MP3、又PK掉了MP4、又干掉了电视机、游戏机、照相机。可以说当今社会，“一机在手，天下我有”！

手机如此的重要，那么手机性能无疑成了人们追求的目标，而手机性能又是由芯片、操作系统、屏幕等众多因素决定的，其中芯片可以说起着决定性因素，芯片性能强大，那么这款手机整体就是不错的。

高通、华为、苹果、三星等各大厂商在手机芯片领域角逐厮*，从14那么到7nm再到5nm，可以说*的天昏地暗、日月无光，最后美国政府都参与进来了。因为大家都知道在芯片领域落后就意味着失去整个市场，龙头吃肉，而其他公司别说喝汤了，恐怕生存都困难。

10nm、7nm、5nm工艺制程的芯片到底差距在哪里呢？听我慢慢道来！

众所周知芯片是由光刻设备在晶圆上刻蚀而来的，如果芯片是一座高楼大厦，那么晶圆就是砖瓦，是最基本的单元，在指甲盖大小的一片晶圆上，晶体管数量越多，说明芯片的集成度越高，那么性能也越高，能耗也就越低。

nm即纳米，长度单位，目前市场上的芯片都是纳米级的，最好的芯片是5nm工艺制程，也就是晶体管的宽度（也叫线宽）是5nm，那么5nm有多大呢？就是把一根头发剖成1万根，其中1根的直径就是5nm。

芯片分为设计、制作、封装测试，其中最难的就是制作，芯片光刻的难度好比是在一粒大米上雕刻清明上河图，而且还是在运动过程中雕刻。而且要使用先进的设备—光刻机。

10nm芯片普通光刻机即可制作，而7nm、5nm芯片就要使用AMSL公司的EUV光刻机，那么EUV光刻机制作难度有多大呢？