最近这两年，国人对芯片和光刻机投入了较高的关注，对应的企业就是中芯国际和上海微电子，这两家企业分别是芯片制造龙头和国产光刻机龙头，不过中芯国际是上市公司，相对而言财务和管理方面比较透明，但是上海微电子目前还是私营企业，不属于公众公司，因此显得尤为神秘，外界也予以颇多猜测。
最近，国有控制下的芯片制造厂商积塔半导体对外招标采购芯片生产设备，其中就包括光刻机等设备，积塔半导体主要生产的是功率芯片，这一类芯片对于光刻机制程工艺的要求并不高，过去，一般90nm-350nm就可以满足需要。
但是中标结果显示，3台光刻机都被ASML拿下，没有一家国产厂商中标，积塔半导体采购的还是KrF和i-line等系列光源的光刻机，这些设备的制程工艺均被上海微电子所突破，但意外的是，上海微电子落选了。
唯一欣慰的是，在工艺检测设备方面，上海微电子中标了4台产品，算是弥补了部分的尴尬。
那么这也显示出，过去对于制程工艺要求不高的功率半导体，目前也在积极提高制程，根据上海的多个功率半导体厂商采购的光刻机显示，普遍已经可以支持45nm芯片的生产。
反过来，这也要求上海微电子必须加快推出45nm甚至28nm的光刻机设备，应对当前的市场挑战，因为原本要求不高的功率半导体，现在也在加速进行制程升级了。
那么到底上海微电子2021年里经营业绩如何呢？
科技野武士找到了上海电气控股集团最近发布的财务报表，获得了上海微电子详细的2021年经营数据。
不是好消息是，上海微电子在2021年里创下了近年来的收入新高，营业收入达到了8.01亿元，几乎比2020年翻了一倍，公司的总资产也来到33亿元，通过*的不断增资，净资产也上升到了11.24亿元。当然更振奋人心的是，上海微电子的亏损也在缩减，2021年的亏损额只有3382万元，2020年的亏损却达到了1.06亿元。
2021年上海微电子公开的专利达到103个，2020年公开的专利是122个，今年前4个月，公开的专利33个，从研发的专利数量来看，公司的研发进度相对比较平稳，似乎在专利投入方面并没有呈现大幅的增长。
如果对比上海微电子和ASML，可能不忍直视，因为ASML在2021年的收入是220亿美元，合计人民币超过1500亿元，上海微电子只能算是一个零头。对比二者的净利润，上海微电子更是没法比，ASML去年全年58.83亿美元，要是对比专利，ASML的光刻机专利数量是5000个，但上海微电子的光刻机专利数量不足2000个。
不过对于这样的结果，大众也不应该悲观，因为工艺量测设备，全球的市场份额也不过五六百亿元，目前美国企业和日本企业占据全球最大份额，原因是量测设备涉及电学、光学和光声技术等多个技术领域，难度非常高，国内企业获得突破的企业也相对不多，因此上海微电子能够获得订单，也同样值得赞许。
但是从另一个角度来思考，上海微电子对比ASML，产品线过于分散，不能够集中，也是个问题，在各个设备方面似乎都有涉足，但都不精通，那难以拿出拳头产品。这极大地分散了上海微电子的研发投入。反观ASML，只专精于光刻机，检测设备、退火设备等并不涉足。
再者从另一个角度而言，不是单单依靠上海微电子自身加大研发，就能够一蹴而就生产出光刻机，因为光刻机产业链的上游有许多的科技环节，一个整机企业根本无法兼顾，它需要整个产业链上下游共同协作，努力进行全面突破。
尤其是包括双工作台系统、光源系统和光学镜头系统，当然最核心的还有软件方面。所以不能单单看一个上海微电子，因为从中国整个的光刻机相关的专利数量来看，这两年国内申请的光刻机专利数量在呈几何倍数增长，所以突破是指日可待的。
当然，从这次积塔半导体的招标，我们可以欣喜地发现，除了光刻机以外，大部分中标的都是国产设备，包括刻蚀设备、镀膜设备、热处理设备等都在国产化的基础上实现了满足，让人欣慰。
