要知道，光刻机行业有着举足轻重的《光刻掩模板的制造》一书，可是在1972年由武汉三厂编写出版的。

一时之间，所有人都在说，中国在电子工程领域绝对不可能成功，丧气话越传越盛，直接导致那些还在苦苦坚持之人也选择了放弃。

可中国的光刻机真的就要到这止步了么？

答案当然不是这样。

有千千万万个前辈倒下，就会有万万千千个后辈站出来。

2002年在寸土寸金的上海，上海微电子公司宣告成立，这一年，中国对于光刻机的研究又开始了，而这家公司也成了主力军。

其取得的战绩是相当之漂亮的。

IC前道制造、IC后道先进封装等四大光刻机先后接连面世，至于其生产的“600系列”，也早已满足制造的光刻工艺需求。

等到2021年的9月，该公司还推出了大视场高分辨率的先进封装光刻机，各项性能已经超过了世界光刻机领域的平均水平。

可若说就这，好像还不足以让独占鳌头的阿斯麦惊恐，但当上海微电子公开表示正在全速开发浸没式光刻系统，并且在2022年2月7日将中国第一台2.5D/3D的先进封装光刻机交付给客户使用的时候，整个世界的目光都被吸引到了中国。