事实上，我国光刻机制造商上海微电子的制造水准才达到28nm级别，要想造出EUV光刻机确实还有很长的路要走。但是，最近美国联合日本和荷兰，对我国光刻机下手，此前ASML不能出货给中企EUV光刻机，如今下探到DUV光刻机，ASML曾多次表示，不支持美国对中国的芯片制裁，并抱怨“在美国的压力下，我们放弃的已经够多了”。

每台10亿元以上的EUV光刻机，不能出货给中企，ASML损失的已经够多了，而DUV光刻机在限制出货给中国，那么ASML平均每年向中国出货近100台光刻机设备，就会大大缩水，这将直接影响未来ASML在中国市场的生存。

为此，ASML总裁温宁克专门来中国进行了访问，并且非常看好中国市场，还要继续与中国保持合作，不仅如此，在访华回去后，ASML总裁温宁克发表了最新表态，中国自己研发半导体设备非常合情合理，而且未来会生产出先进的光刻机，这当然有可能发生。

不难看出，此前ASML还曾扬言，就算将图纸公布出来，中国也造不出EUV光刻机，如今却突然改成了，未来能生产出先进的光刻机，真是没想到态度转变的太快了。

ASML的态度发生如此大的转变是因为，一方面中国是全球最大的芯片市场，未来2030年预计将达到1.2万亿美元，这就说明，中国市场非常重要，ASML继续保持与中国合作非常有必要，放弃中国市场那才算愚蠢的行为。

另一方面，中国半导体是与全球进行竞争，购买非中国的光刻机不仅是为了满足国内的芯片需求，还是为了拿来做研究，如果中国买不到想要的光刻机设备，那么只有一个办法就是自主研发光刻机设备，最终中国将实现目标。美国若没有限制中企光刻机，中国光刻机的研发进度或慢很多，但是，现在情况大不一样，美国的打压只会让中国自研光刻机大幅度提速。